先端光技術シリーズ 3 先端光技術入門 ―ナノフォトニクスに挑戦しよう―

大津 元一(編著)/成瀬 誠八井 崇(著)

大津 元一(編著)/成瀬 誠八井 崇(著)

定価 4,290 円(本体 3,900 円+税)

A5判/224ページ
刊行日:2009年04月05日
ISBN:978-4-254-21503-8 C3350

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内容紹介

光技術の限界を超えるために提案された日本発の革新技術であるナノフォトニクスを豊富な図表で解説。〔内容〕原理/事例/材料と加工/システムへの展開/将来展望/付録(量子力学の基本事項/電気双極子の作る電場/湯川関数の導出)。

編集部から

目次

1. 本書で扱う先端光技術
1.1 光の正体
1.2 レーザーがもたらした光技術の革新
1.3 なぜ光の微小化が必要か

2. ナノフォトニクスの原理
2.1 近接場光とは
2.1.1 電磁気学による部分的な説明
2.1.2 正確な描像
2.2 近接場光が関与する独特な遷移過程
2.2.1 光による気体分子の解離
2.2.2 非断熱過程:近接場光固有の現象

3. ナノフォトニスの事例
3.1 デバイスへの応用
3.1.1 デバイスに対する要求
3.1.2 デバイスの例
3.2 加工への応用
3.2.1 光化学気相堆積法
3.2.2 光リソグラフィ
3.3 システムへの応用

4. ナノフォトニクスのための材料と加工
4.1 光で可能となる低温結晶成長
4.1.1 窒化ガリウム(GaN)の室温成長
4.1.2 酸化亜鉛(ZnO)ナノロッドの低温成長
4.2 近接場光化学気相堆積法
4.2.1 近接場光化学気相堆積装置
4.2.2 フッ素樹脂コートファイバー
4.2.3 Zn堆積における寸法共鳴効果
4.2.4 ナノ微粒子中における寸法依存共鳴を用いた粒径制御
4.3 大面積加工技術
4.3.1 レーザー照射スパッタリング法による自己組織的配列
4.3.2 非断熱光化学反応によるオングストローム平坦化

5. ナノフォトニクスのシステムへの展開
5.1 システムから見たナノフォトニクス
5.1.1 システムへの新しい要求条件
5.1.2 システムアーキテクチャの重要性
5.1.3 ナノフォトニクスが提供する新しい設計自由度
5.2 ナノフォトニックシステムI―エネルギー移動を活かす―
5.3 ナノフォトニックシステムII―階層性を活かす―
5.3.1 近接場光と伝搬光の「区別」とシステム機能
5.3.2 近接場光のなかの階層性
5.4 今後の展開

6. 将来展望
6.1 基礎概念について
6.2 技術と産業について

付録
A. 量子力学の基本事項
A.1 量子力学の要請
A.2 定常状態
A.3 演算子のエルミート性
A.4 不確定性原理
A.5 運動の恒量
A.6 状態関数の偶奇性
A.7 状態関数の展開係数
A.8 具体例1 井戸型ポテンシャル中の粒子の振る舞い
A.9 具体例2 光の量子化
A.10 具体例3 励起子ポラリトン
A.11 行列を用いた計算法
B. 電気双極子の作る電場
C. 湯川関数の導出…………197

索  引

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